Бид Хятадад хулсны папермын урт түүхтэй. Хулсан шилэн морфологи, химийн найрлага нь онцгой байдаг. Дундаж шилэн урт нь урт бөгөөд шилэн эсийн ханын хана тусгай байдаг. Целлюлозын үед хүч чадлын хөгжлийн гүйцэтгэл сайн байгаа нь цайруулсан целлюлозын өндөр тунгалаг байдал, гэрлийн тархалтын коэффициент зэрэг сайн оптик шинж чанарыг өгдөг. Хулсан түүхий эдэд агуулагдах лигниний агууламж өндөр (ойролцоогоор 23%-32%) байдаг нь нухаш шахах, хоол хийх явцад шүлтийн хэмжээ их, сульфидалтын зэрэг (сульфидалтын зэрэг нь ерөнхийдөө 20-25%), шилмүүст модтой ойролцоо байдаг. . Түүхий эдэд агуулагдах гемицеллюлоз, цахиурын агууламж өндөр байгаа нь целлюлоз угаах, хар шингэнийг ууршуулах, баяжуулах төхөөрөмжийн хэвийн үйл ажиллагаанд тодорхой хүндрэл учруулдаг. Хэдийгээр хийсэн ч хулсан түүхий эд нь Папермацийн сайн түүхий эд хэвээр байна.
Хулсан том, дунд зэргийн хэмжээтэй химийн бодисын цайруулах систем нь үндсэндээ TCF эсвэл ECF цайруулах процессыг хүлээн авах болно. Ерөнхийдөө гүнзгийрүүлсэн, гүн гүнзгий давж заалдах, tcf эсвэл ecf цайруулах технологийг хамарна. Цайруулах үе шатнаас хамаарч хулсны тооноос хамаарна.
Манай цайруулсан хулсны целлюлозын эдийг бүхэлд нь ECF (элементийн хлор агуулаагүй) -ээр цайруулдаг бөгөөд энэ нь хулсны целлюлозын цайралтын алдагдал багатай, целлюлозын зуурамтгай чанар өндөр, ерөнхийдөө 800мл/г-аас их байдаг. ECF цайруулсан хулсан эдүүд нь илүү сайн уян хатан чанартай, бага химийн бодис хэрэглэдэг, маш их цайруулах үр ашгийг ашиглана. Үүний зэрэгцээ тоног төхөөрөмжийн систем боловсорсон бөгөөд үйл ажиллагааны гүйцэтгэл тогтвортой байна.
ECF ECF ELEREAL ELERALE-ийн үйл явц нь хулсны эдийг цайруулж байна: эхний, хүчилтөрөгчийн цамхагийг исэлдүүлэх цайруулах цамхаг руу нэвтрэн ордог. угаасны дараа дарааллаар. Химийн цайруулах гол химийн бодисууд нь ci02 (chlorine dioxide), NAOH (натроксид), H202 (натроксид), yaoh (устөрөгчийн гидроксид), цайруулсан цайруулсан цайруулагч нь даралтын шингэн алдалтаар үүсдэг. Цайруулсан хулсан хулсны эд эсийн цайралт нь 80% -иас илүү хүрч болно.
Шуудангийн цаг: 2024 оны 8-р сарын 22-ны хооронд
